研究者詳細情報

• 研究者氏名
  泉　宏和
• 所属（現職）
  兵庫県立工業技術センター 材料・分析技術部 無機材料グループ
• 担当業務
  セラミックス、窯業材料に関する技術相談・機器利用・依頼試験、担当機器：エックス線回折測定装置、ホール効果測定装置、パルスレーザー成膜装置など
• 研究分野
  無機材料化学

• 論文
  "Growth and ferroelectric properties of La and Al codoped BiFeO3 epitaxial films", H.Izumi, T.Yoshimura, N.Fujimura, J.Appl.Phys., 121, 174102 (2017).
  "Electrical properties of crystalline ITO films prepared at room temperature by pulsed laser deposition on plastic substrates", H.Izumi, T.Ishihara, H.Yoshioka, M.Motoyama, Thin Solid Films, 411, 32 (2002).
  "Electrical and structural properties of indium tin oxide films prepared by pulsed laser deposition", H.Izumi, F.O.Adurodija, T.Kaneyoshi, T.Ishihara, H.Yoshioka, M.Motoyama, J.Appl.Phys., 91, 1213 (2002).
• 著書
  「透明導電膜の新展開２ 」（担当:分担執筆, 範囲:第8章 レーザービームを用いた透明導電膜の作製）シーエムシー出版 2002年10月
  「希土類の科学」（担当:分担執筆, 範囲:第20章 磁性体）化学同人 1999年3月
  「固体化学の基礎と無機材料」（担当:分担執筆, 範囲:第11章 固体の磁気的性質）丸善出版 1995年6月
• 学会
  応用物理学会
  日本セラミックス協会
  日本化学会
  日本磁気学会
  日本希土類学会
  DV-Xα研究協会
• 保有知財
  特願2012-146746「結晶性薄膜又は結晶性構造体の製造方法、及び結晶性構造体」
  特願2001-078577「ITO透明導電膜の形成方法」